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半导体产业作为数字经济的心脏,其制造过程对水质的要求达到工业之最,超纯水被誉为行业的“隐形血液。在生产制造过程中,水质的纯净度直接影响到产品的质量和良品率。即使是微量杂质也可能导致严重的后果。 如: 离子杂质会导致芯片表面形成缺陷,影响电导率和可靠性; 有机物会污染光刻胶,导致图案不清晰或缺陷; 微生物则可能引起腐蚀和堵塞,降低设备的使用寿命。 世达膜公司的半导体超纯水设备通过多重净化技术,有效去除杂质,保障了半导体制造过程中的水质纯净。
水处理能力:反渗透装置水的出水率应≥75%,脱盐率应≥97% 出水水质: 总硬度:≈0μmol/L,二氧化硅:<0.02mg/L,电导率:<0.2μs/cm,PH值:8.8~9.2,产水水质应达到《火力发电机组及蒸汽动力设备水汽质量》GB/T 12145—2016的要求; 水处理主工艺:多介质过滤器+活性炭过滤器+2级反渗透+EDI装置,设2套反渗透装置和EDI,每套装置都能单独运行,也可以并联同时运行。